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Ion Sputtering Instrument
- Product Numbers: 2018122510121
- Price: US $
- Product description: Ion Sputtering Instrument
INTRODUCTION
采用進口品牌高性能旋片泵產生一個潔凈的< 1-2 Pa的真空壓強，通常抽真空時間小于3-5分鐘。
采用高品質恒功率磁控濺射電源，確保恒定鍍膜沉積速率。
磁控陰極的使用也有效減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷。
特別適用于追求更高分辨率和樣品溫度敏感的SEM 掃描電鏡樣品的噴金、鉑等用途。
觸摸屏自動控制，即插即用。
